专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [实用新型]衬底-CN201120512360.1有效
  • 梁秉文 - 光达光电设备科技(嘉兴)有限公司
  • 2011-12-09 - 2012-08-22 - H01L33/20
  • 本实用新型实施例提供一种具有主动面和被动面的衬底,所述主动面用于形成LED器件或集成电路器件,所述被动面具有多条预切割通道,该预切割通道用于在形成所述LED器件或集成电路器件的工艺过程中释放所述衬底上的应力在形成LED器件或集成电路器件的过程中,所述预切割通道可以将衬底上的应力释放,从而减小或消除衬底上的应力,有利于提高LED器件的良率。并且上述形成有预切割通道的衬底在LED器件或集成电路器件形成后,可以直接进行裂片,无需进行减薄、切割步骤,从而减少工艺步骤,简化工艺流程,提高LED器件的成品率、产量,降低LED器件的成本。
  • 衬底
  • [实用新型]衬底-CN201720388304.9有效
  • 唐永炳;石磊;蒋春磊 - 深圳先进技术研究院
  • 2017-04-11 - 2017-12-26 - G01L5/00
  • 本实用新型实施方式公开了一种衬底,属于薄膜领域的技术方案,其核心在于所述衬底包括相对布置的测量面和镀膜面,所述测量面为抛光面;此方案可采用光杠杆法对所述衬底的测量面进行曲率半径测量,得出R'0(镀薄膜前)和R'(镀薄膜后),最后代入薄膜应力计算公式便可得出薄膜应力σ,此方法对薄膜的反光能力并无要求,只要保证衬底的测量面为抛光面,便可应用光杆杠法得出薄膜应力σ,解决现有技术必须薄膜实现反光才能测量薄膜应力的问题
  • 衬底
  • [发明专利]模块衬底及印刷衬底-CN202010121388.6在审
  • 村上克也 - 铠侠股份有限公司
  • 2020-02-26 - 2021-03-26 - H05K1/02
  • 实施方式提供一种能够将来自半导体装置的热有效率地放散的模块衬底及印刷衬底。实施方式的模块衬底具备:印刷衬底,具有贯通孔;半导体装置,以覆盖贯通孔的方式安装在印刷衬底;以及传热性的多角柱,设置在贯通孔内;且半导体装置具有接地端子或电源端子,多角柱在多角柱的角被贯通孔的内壁支持,
  • 模块衬底印刷
  • [发明专利]衬底-产品衬底-组合以及用于制造衬底-产品衬底-组合的设备和方法-CN201280073963.3有效
  • 埃里希·塔尔纳 - 埃里希·塔尔纳
  • 2012-06-12 - 2015-05-27 - H01L21/683
  • 本发明涉及一种用于通过将平面衬底(2,2′)的接触侧(2o)与载体衬底(5,5′)的支撑面(5o)对准、接触和接合来制造衬底-产品衬底-组合的方法,其中,所述衬底(2,2′)在接触时具有比所述载体衬底(此外,本发明还涉及一种用于通过将平面衬底(2,2′)的接触侧(2o)与载体衬底(5,5′)的支撑面(5o)对准、接触和接合来制造衬底-产品衬底-组合的衬底(2,2′),其中,所述衬底(2,2′)具有直径d1,该直径在背面减薄时可通过所述衬底(2,2′)的横截面的形状在其周缘轮廓(2u)上减小。另外,本发明还涉及一种相对应的设备和一种用于将具有平均直径d1的平面衬底(2)用于与具有平均直径d2的载体衬底(5)进行对准和接触以便对所述平面衬底(2)进行再加工的用法,其中,平均直径d1大于平均直径
  • 衬底产品组合以及用于制造设备方法
  • [发明专利]衬底托盘、衬底定位方法及衬底定位系统-CN201510585911.X在审
  • 蒋国文;冉军学;王其忻;胡强 - 广东省中科宏微半导体设备有限公司
  • 2015-09-15 - 2015-11-18 - C23C16/458
  • 本发明公开了一种衬底托盘、衬底定位方法及衬底定位系统,衬底托盘设置有多个沿反射率监控圆环间隔设置的第一衬底放置区至第N衬底放置区;其中,自第一衬底放置区起,相邻两个衬底放置区的间隔分别为第一间隔至第N间隔,第一间隔至第N间隔中包括有至少一个定位间隔,且其余间隔的距离相同,定位间隔的距离与任意相邻衬底放置区的间隔的距离不同。获取采集反射率数据并绘制为反射率柱形图,由于在衬底托盘的第一间隔至第N间隔中设置至少一个定位间隔,进而通过相邻衬底放置区的间隔的距离和反射率柱形图中相邻柱形的间隔的距离对定位间隔进行确定,并通过衬底托盘的转动方向,以最终确定发射率柱形图中每个柱形所对应的衬底
  • 衬底托盘定位方法系统
  • [发明专利]衬底洗净装置、衬底处理装置及衬底洗净方法-CN202111079496.2在审
  • 筱原智之;冈田吉文;冲田展彬;加藤洋;筱原敬 - 株式会社斯库林集团
  • 2021-09-15 - 2022-03-18 - H01L21/67
  • 本发明涉及一种衬底洗净装置、衬底处理装置及衬底洗净方法。本发明的第1衬底保持部保持衬底的外周端部。第2衬底保持部在第1衬底保持部下方的位置吸附保持衬底的下表面中央区域。下表面刷在与利用第1衬底保持部保持的衬底的下表面接触的位置、与下表面刷与利用第2衬底保持部保持的衬底的下表面接触的位置之间升降。第2衬底保持部及下表面刷设置在能够在水平方向移动的可动台座上。可动台座在下表面刷与衬底的下表面外侧区域对向的位置、与下表面刷与衬底的下表面中央区域对向的位置之间移动。洗净利用第1衬底保持部保持的衬底的下表面中央区域。这时,衬底的高度位置高于处理杯的上端部。洗净利用第2衬底保持部保持的衬底的下表面外侧区域。这时,衬底的高度位置低于处理杯的上端部。
  • 衬底洗净装置处理方法

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